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島津製作所、太陽電池セルのPID耐性を向上させる成膜装置を開発

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島津製作所、太陽電池セルのPID耐性を向上させる成膜装置を開発

島津製作所は、結晶シリコン型太陽電池セル生産プロセス向けに、反射防止膜成膜装置「MCXS」と検査装置「SCI」を発売する。

「MCXS」は、新開発のホローカソードプラズマソースとダイレクトプラズマの採用により、高スループットで低ランニングコスト、かつ高いPID耐性を有する反射防止膜を成膜するプラズマCVD装置。高密度プラズマが基板の表面や内部に存在する結晶欠陥を修復し、太陽電池の特性を改善させるため、高変換効率化にも貢献する。価格は1億7千万円。初年度20台の販売を目指す。

島津製作所 複合検査装置「SCI」

「SCI」は、マイクロクラックとウエハ外観の1台同時検査を可能にした複合検査装置「SCI-8SM」と、業界最小サイズの外観検査装置「SCI-8S」の2機種。両製品は、ライン停止による長期の生産中断の防止や、歩留まりの向上に効果を発揮する。「SCI-8SM」は1千万円で初年度15台の販売、「SCI-8S」は5百万円で初年度20台の販売を目指す。

世界的に太陽電池市場が拡大する中、メガソーラー等の太陽光システム全体の出力を低下させるとして大きな問題になっているPID(電圧誘起出力低下)に対して高い耐性をもつ太陽電池が強く求められている。

このため、太陽光の反射を抑えてエネルギーの吸収を高める役割を果たし、発電効率向上に貢献する反射防止膜及びその成膜装置についても、高水準の性能と生産性が求められていた。

また、太陽電池の生産性を向上しつつ、品質管理を厳格にするために、太陽電池セルの生産工程において現在主に人手で行われている検査の自動化も強く求められていた。

なお、CVD装置は、半導体の表面に10nmから1000nm程度の薄い膜を堆積する薄膜形成装置の一つ。

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